TL5001CPS

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Brand :

Part :: TL5001CPS

Package :: SO-8

Manual :: TL5001CPS No data

Packing :: Tube

Supply :: Advisory

Product Description

Product attributes	Attribute value
产品分类 :	电源管理
产品品牌 :	TI
包装数量 :	80
包装方式 :	Tube
厂商型号 :	TL5001CPS
封装规格 :	SO-8
开关频率 :	400 kHz
最大工作温度 :	+ 125 C
最小工作温度 :	- 40 C
输出电压 :	1 V to 50 V
输出电流 :	3 A
输出端数量 :	1 Output

News

01-29

明锐微科技2021年春节放假通知

尊敬的明锐微科技各位客户:　　春节将至，明锐微科技祝您在新的一年里牛气冲天，生意兴隆，并感谢您在过去的一年中对我们的支持!为更好的落实我们的服务，现将2021年春节放假时间安排公布如下：　　2021年2月6日至19日放假时间，共14天，2月20日(初九)正式上班。需要备货请在2020年...

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12-31

明锐微科技2021年元旦放假通知

尊敬的明锐微科技客户：2021年元旦将临，明锐微科技全体员工祝您在新的一年里生意兴隆,财源滚滚,家庭安康,天天好运！元旦期间明锐微科技放假安排如下：2021年1月1日（星期五）至1月3日（星期日）放假，共3天。放假期间产生的订单将于2021年1月4日起按照付款先后顺序发货，请您知悉...

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07-25

明锐微科技网站全新改版上线了

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09-23

【集成电路】EUV技术创新绘制半导体蓝图

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04-09

【集成电路】半导体光刻工艺及光刻机全解析

　光刻工艺是半导体制造中最为重要的工艺步骤之一。主要作用是将掩膜板上的图形复制到硅片上，为下一步进行刻蚀或者离子注入工序做好准备。光刻的成本约为整个硅片制造工艺的1/3，耗费时间约占整个硅片工艺的40～60%。　　光刻机是生产线上最贵的机台，5～15百万美元/台。主要是贵...

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03-15

【集成电路】关键莱利公式扮演半导体制程微缩重要基础

半导体讲求制程微缩，生产的芯片除了有更小体积、更好效能之外，也有更优异的耗能表现。而在制程微缩的需求下，微影曝光设备能提供的效能就更加关键。如何让微影曝光设备能提供更加精密的工作效能，全球微影曝光设备大厂ASML就在官方Facebook公布关键公式：莱利公式（Raylei...

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07-17

【集成电路】三星采用两大策略，在图像传感器市场挑战龙头索尼

积极在非存储器半导体产品发展的韩国三星电子，目前正在图形传感器市场采用两项策略，包括采用更先进制程技术，以及更具竞争力的订价策略，挑战市场龙头SONY的地位。　　根据韩国媒体《KoreaBusiness》报导指出，当前在图形传感器积极发展的韩国三星，正在向主要智能手机制造...

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04-16

【集成电路】纳米制程是什么？

三星以及台积电在先进半导体制程打得相当火热，彼此都想要在晶圆代工中抢得先机以争取订单，然而半导体制程中所描述的那些数字究竟有何意义？指的又是哪个部位？而在缩小制程后又将来带来什么好处与难题？以下我们将就纳米制程做简单的说明。　　纳米到底有多细微？　　在开始之前...

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海力士存储芯片使用评价高的原因

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TL5001CPS

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